PECVD納米鍍膜技術(shù)主要解決什么問題?
PECVD納米鍍膜技術(shù),主要是為處于復(fù)雜應(yīng)用環(huán)境中的電子產(chǎn)品制備高性能、多功能的納米薄膜。
隨著電子產(chǎn)品向著輕薄化、精細(xì)化的方向快速發(fā)展,其內(nèi)部的關(guān)鍵模組和精密器件對(duì)光學(xué)性能、導(dǎo)電性能、信號(hào)通過率以及水汽阻隔率等特性提出了越來越高的要求。面對(duì)這些挑戰(zhàn),傳統(tǒng)的防護(hù)方法,比如通過結(jié)構(gòu)密閉或噴涂化學(xué)涂層,已不能滿足電子產(chǎn)品對(duì)防水、防腐蝕等更高級(jí)別防護(hù)的需求。
PECVD納米鍍膜技術(shù)能夠?qū)Σ牧显诜肿訉由踔猎訉舆M(jìn)行排列組合,在電子元器件表面形成致密的高性能、高質(zhì)量的薄膜結(jié)構(gòu),從而實(shí)現(xiàn)防水、疏水、親水、防腐蝕、防指紋、抗鹽霧、抗老化、抗霉菌、超耐磨、高硬度等多種功能。
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